半导体制造导论
第五章章前1至少列出三种重要的加热制程氧化,退火,沉积是三种重要的加热制程2说明直立式和水平式炉管的基本系统并列出直立式炉管的优点气体输送系统,制程炉管,控制系统,气体排放系统,装载系统。LPCVD的话再加上真空系统优点:占地面积小,微粒污染较低,能够处理大量的晶圆,均匀性较佳,维修成本较低3.说明氧化制程氧化是最重要的制程之一,它是一种添加制程,把氧气加到硅晶圆上,在晶圆表面形成二氧化硅4.说明...
2023-05-25 13 0
第五章章前1至少列出三种重要的加热制程氧化,退火,沉积是三种重要的加热制程2说明直立式和水平式炉管的基本系统并列出直立式炉管的优点气体输送系统,制程炉管,控制系统,气体排放系统,装载系统。LPCVD的话再加上真空系统优点:占地面积小,微粒污染较低,能够处理大量的晶圆,均匀性较佳,维修成本较低3.说明氧化制程氧化是最重要的制程之一,它是一种添加制程,把氧气加到硅晶圆上,在晶圆表面形成二氧化硅4.说明...